Китайская компания Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE) намерена выпустить сканер для чипов, которые станут лидерами по производительности, без использования технологий США.
Сейчас китайская компания разрабатывает сканер для иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолете (DUV). Оборудование, по словам производителя, поступит на рынок к концу 2021 года. Для его создания используются материалы и технологии только из Японии и КНР. Для электронной отрасли Поднебесной появление такого устройства — большой прорыв.
Сканер разрабатывается специально для возможности независимого от санкций США производства по техпроцессу до 28 нм. Сейчас самое современное оборудование позволяет создавать микросхемы с техпроцессом не менее 90 нанометров. В компании SMEE обещают снизить этот показатель до 28 нанометров.